Пленка RP-7
специально используется для изготовления прозрачных фотошаблонов на
фотоплоттерах с гелий-неоновым или красным лазерном с длиной волны 630-670
нм.
Пленка имеет
отличные показатели:
• хорошая размерная
стабильность;
• средняя
чувствительность;
• широта проявления;
• превосходная
резкость линий;
• высокая скорость
проявления.
Основные
характеристики
• Полиэстровая
основа толщиной 175 мкм.
• Специальный
эмульсионный слой предотвращает образования дефектов на шаблоне.
• Высокая
контрастность, высокое разрешение и высокая плотность изображения.
• Хорошая
воспроизводимость и резкость линий.
• Отличная
технология защиты от статического напряжения и пыли.
Распаковка и
использование фотопленки только в темном помещении или при темно-зеленом
неактиничном освещении.
Фотопленка может
обрабатываться фотохимией, подходящая под процесс Rapid Access (Рапид
Аксесс), например химия HG 2000
|