Внедрение технологий, поставка оборудования и расходных материалов для производства печатных плат и полиграфии
8 (499) 640-82-64 (многоканальный)
+7 (916) 144-40-41

Фототехнические пленки для изготовления прозрачных фотошаблонов и химия для их обработки производства Lucky Huaguang Printing Technology Co., Ltd (Китай). Пленки толщиной 100 и 175 мкм для работы на фотоплоттерах, установках прямого экспонирования, контактных рамах.


RP-7

Пленка RP-7 специально используется для изготовления прозрачных фотошаблонов на фотоплоттерах с гелий-неоновым или красным лазерном с длиной волны 630-670 нм.

Пленка имеет отличные показатели:

• хорошая размерная стабильность;

• средняя чувствительность;

• широта проявления;

• превосходная резкость линий;

• высокая скорость проявления.

 

Основные характеристики

• Полиэстровая основа толщиной 175 мкм.

• Специальный эмульсионный слой предотвращает образования дефектов на шаблоне.

• Высокая контрастность, высокое разрешение и высокая плотность изображения.

• Хорошая воспроизводимость и резкость линий.

• Отличная технология защиты от статического напряжения и пыли.

Распаковка и использование фотопленки только в темном помещении или при темно-зеленом неактиничном освещении.

Фотопленка может обрабатываться фотохимией, подходящая под процесс Rapid Access (Рапид Аксесс), например химия HG 2000

YZ-800

Пленка для контактной печати в фотолаборатории, чувстительная к сине-зеленому свету для фотоплоттеров с использованием сине-зеленого лазерного диода (500-532 нм) или аргонового лазера (488 нм). Обладает такими характеристиками, как высокая контрастность, чистые и четкие линии, широта экспонирования, подходит для быстрой проявки при высоких температурах. Пленка используются в качестве материалов для получения изображений различных источников света во многих отраслях промышленности, таких как трафаретная печать и трафаретное дублирование в полиграфической и электронной промышленности.

Толщина полиэстеровой основы: 0.100 мм (0.004”).

Распаковка и использование фотопленки только в темном помещении или при темно-красного неактиничном освещении. Фотопленка может обрабатываться фотохимией, подходящая под процесс Rapid Access (Рапид Аксесс), например химия HG 2000

GRL-II

УФ-чувствительная негативная пленка для контактных работ.

Предназначена для изготовления рабочих копий фотошаблонов для печатных плат, так же для картографических и репрографических приложений.

Толщина полиэстеровой основы: 0.100 мм (0.004”).

Пленка может быть распакована при дневном свете или безопасном желтом свете.

Фотопленка может обрабатываться фотохимией, подходящая под процесс Rapid Access (Рапид Аксесс), например химия HG 2000

Проявитель HG 2000

Концентрированный быстроработающий проявитель HG2000 предназначен для обработки фототехнических пленок.

 

Характеристики проявителя:

Высокая скорость обработки фотоматериалов.

Высокотехнологичная формула проявителя, обеспечивает высокую плотность изображения D-max и высокий контраст.

Высокая стабильность химии в проявочном процессе.

 

Обработка пленок в проявителе HG2000 производиться по процессу Rapid Access и используется, как для машинной, так и для ручной обработки.

Концентрат разбавляется водой в соотношении 1:3.

Поставляется в пластиковых канистрах объемом 5 литров (20 литров рабочего раствора). Упаковка содержит 3 канистры по 5 литров.

Фиксаж

HG 2000

Концентрированный быстроработающий фиксаж HG2000 предназначен для обработки фототехнических пленок.

 

Характеристики фиксажа:

Высокая скорость обработки фотоматериалов.

Высокая стабильность химии в проявочном процессе.

Обработка пленок в фиксаже HG2000 производиться по процессу Rapid Access и используется, как для машинной, так и для ручной обработки.

Концентрат разбавляется водой в соотношении 1:3.

Поставляется в пластиковых канистрах объемом 5 литров (20 литров рабочего раствора). Упаковка содержит 3 канистры по 5 литров.