|
|
Сухой пленочный фоторезист
HORI (Китай)
серия НR 7100
Водно-щелочное
проявление, кислое и щелочное травление внутренних и наружных слоев, гальваническое
покрытие, тентинг
|
|
HR 7130
|
HR 7140
|
HR 7150
|
|
Толщина
|
30
|
40
|
50
|
|
Тонкие линии
|
●
|
|
|
|
Кислое травление
|
●
|
●
|
●
|
|
Щелочное травление
|
|
●
|
●
|
|
Покрытие
|
|
●
|
●
|
|
Тентинг
|
●
|
●
|
●
|
|
Особенности
|
Высокое разрешение,
Отличная стойкость
к покрытию и тентированию
|
Характеристики
|
|
HR 7130
|
HR 7140
|
HR 7150
|
|
Оборудование
|
Любое стандартное
оборудование для экспонирования
(например, СВТ
Е2100-5КАС)
|
|
Клин Штоуффера
|
SST41
|
|
Энергия экспонирования
(мДж/см2)
|
75
|
90
|
95
|
|
Чувствительность (41ST)
|
18±2
|
20±2
|
20±2
|
|
Разрешение,
проводник/зазор (мкм)
|
25/30
|
30/35
|
35/40
|
|
Ламинирование,
макс.глубина (мкм)
|
13±5
|
20±5
|
23±5
|
|
Время проявления
(сек)
|
26±3
|
43±3
|
52±5
|
|
Снятие (сек)
(3% NaOH, 500С)
|
26±3
|
45±3
|
52±3
|
|
Размер частиц (мм)
|
≤60
|
≤45
|
≤40
|
|
Тентинг
(диаметр,мм)
|
4
|
6
|
7
|
серия НD 700
Прямое
экспонирование, водно-щелочное проявление, кислое и щелочное травление
внутренних и наружных слоев, гальваническое покрытие, тентинг
|
|
HD 733
|
HD 740F
|
HD 750
|
|
Толщина
|
33±2
|
40±2
|
48±2
|
|
Кислое травление
|
●
|
●
|
●
|
|
Щелочное травление
|
●
|
●
|
●
|
|
Покрытие
|
●
|
●
|
●
|
|
Тентинг
|
●
|
●
|
●
|
|
Особенности
|
Высокая
чувствительность, адгезия и разрешение,
отличное
тентирование
|
Характеристики
|
|
HD 733
|
HD 740F
|
HD 750
|
|
Оборудование
|
Для прямого
лазерного экспонирования
(например Orbotech Paragou-8800hi)
|
|
Клин Штоуффера
|
SST41
|
|
Энергия
экспонирования (мДж/см2)
|
23
|
23
|
26
|
|
Чувствительность (41ST)
|
20±2
|
20±2
|
20±2
|
|
Разрешение,
проводник/зазор (мкм)
|
30/35
|
35/40
|
40/45
|
|
Ламинирование,
макс.глубина (мкм)
|
18±5
|
20±5
|
25±5
|
|
Время проявления
(сек)
|
38±5
|
45±5
|
55±5
|
|
Снятие (сек)
(3% NaOH, 500С)
|
42±3
|
48±3
|
60±5
|
|
Размер частиц (мм)
|
≤60
|
≤45
|
≤35
|
|
Тентинг
(диаметр,мм)
|
7
|
8
|
9
|
|